Building Filters
Shanghái, China
Shanghái, China
Shanghái, China
Shanghái, China
Espectrofotómetro UV/VIS de la serie básica
Sistema óptico: Viga única, Escala 1200 líneas/mm | Ancho de banda espectral: 4nm | Repetibilidad de la longitud de onda: ≤ 0,5 nm | Precisión fotométrica: ± 0.002A (0-0.5Abs), ± 0.004A (0.5-1.0Abs), ± 0.5% T ...
Shanghái, China
Shanghái, China
Shanghái, China
Shanghái, China
Espectrofotómetro UV-VIS de escaneo de haz doble L7 190-1100 nm
Fotometría: Doble viga | Tipo de monocromador: Czerny-Turner | Distancia focal: 160mm | Rejilla: 1200 líneas/mm | Detector: Celda fotoeléctrica de silicio | Ancho de banda del espectro: 2nm | Ajuste de la longitu...
Shanghái, China
Shanghái, China
Shanghái, China
Shanghái, China
Double Beam Scanning UV/VIS Spectrophotometer
Optical system: Double Beam, Grating 1200 lines/mm | Wavelength range: 190-1100nm | Wavelength accuracy: ± 0.3nm | Wavelength repeatability: ≤ 0.2nm | Photometric accuracy: ± 0.002A (0-0.5Abs), ± 0.004A (0.5-1...
Shanghái, China
Single Beam Scanning UV/VIS Spectrophotometer
Optical system: Single Beam, Grating 1200 lines/mm | Spectral bandwidth: 2nm 1nm 0.5,1,2,4,5nm | Wavelength accuracy: ± 0.5nm | Wavelength repeatability: ≤ 0.2nm | Photometric accuracy: ± 0.002A (0-0.5Abs), ± 0...
Shanghái, China
UV/VIS Spectrophotometer Bandwidth 0.5/1/2/4/5nm
Optical system: Single Beam, Grating 1200 lines/mm | Wavelength range: 190-1100nm | Wavelength accuracy: ± 0.3nm | Wavelength repeatability: ≤ 0.2nm | Photometric accuracy: ± 0.002A (0-0.5Abs), ± 0.004A (0.5-1...
Shanghái, China
