El fotoresist es un material fotosensible utilizado en procesos como la fotolitografía y el fotograbado para formar un recubrimiento patrón en una superficie. Cuando se expone a una longitud de onda específica de luz, sufre cambios químicos que permiten la eliminación selectiva de las regiones expuestas o no expuestas. Esto es fundamental en la fabricación de semiconductores y microelectrónica, así como en la creación de placas de circuitos impresos.
Considera el tipo de fotoresist (positivo o negativo), la sensibilidad a la luz, la resolución y la compatibilidad con tu sustrato y revelador.
Almacena el fotoresist en un lugar fresco y oscuro con una temperatura constante. Debe mantenerse alejado de la luz y la humedad para mantener su sensibilidad.
Usa equipo de protección personal adecuado, incluidos guantes y gafas de seguridad. Asegura una buena ventilación y evita el contacto directo con la piel.