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Usado Photoresist Coating en Corea del Sur

  • DS Precision Ind. Co. DUV-301

    DS Precision Ind. Co. DUV-301

    • Fabricante: DS Precision Ind. Co.

    Aplicación: Eliminación de adherencia de cinta UV y curado del agente de curado UV | ▲ tipo irradiación: Iluminación de caída | ▲ tipo alimentación: Cinta transportadora en cadena | ▲ condición: Nuevo equipo

    Corea del Sur
  • TEL (TOKYO ELECTRON LTD) Marca

    TEL (TOKYO ELECTRON LTD) Marca de pista limpia7 PR TRACK Trabajando

    • Fabricante: Tokyo Electron - TEL

    Fabricante: TEL (TOKYO ELECTRON LTD) | Equipo: PISTA DE PR | Condición: Trabajando | Antiguo: 2003.03 | Modelo: Marca de pista limpia7

    Suwon, Corea del Sur
  • 2006 TEL LITHIUS

    2006 TEL LITHIUS

    • Fabricante: Tokyo Electron - TEL
    • Modelo: Lithius

    Tamaño de la oblea: 12" | Proceso: Desarrollador de revestimientos de alta fiabilidad y productividad | Envío: EXW

    Corea del Sur
  • TEL LITHIUS

    TEL LITHIUS

    • Fabricante: Tokyo Electron - TEL
    • Modelo: Lithius

    Tamaño de la oblea: 12" | Proceso: SISTEMA MONOBLOQUE 2C/3D | Envío: EXW

    Gyeonggi, Corea del Sur
  • 2005 TEL LITHIUS

    2005 TEL LITHIUS

    • Fabricante: Tokyo Electron - TEL
    • Modelo: Lithius

    Tamaño de la oblea: 12" | Proceso: Desarrollador de revestimientos de alta fiabilidad y productividad | Envío: EXW

    Corea del Sur
  • TEL LITHIUS

    TEL LITHIUS

    • Fabricante: Tokyo Electron - TEL
    • Modelo: Lithius

    Tamaño de la oblea: 12" | Envío: EXW

    Corea del Sur
  • 2005 TEL LITHIUS

    2005 TEL LITHIUS

    • Fabricante: Tokyo Electron - TEL
    • Modelo: Lithius

    Tamaño de la oblea: 12" | Proceso: Desarrollador de revestimientos de alta fiabilidad y productividad | Envío: EXW

    Corea del Sur
  • 2006 SCREEN RF3-300A

    2006 SCREEN RF3-300A

    • Fabricante: Screen
    • Modelo: RF3-300A

    Envío: EXW

    Corea del Sur
  • TEL LITHIUS

    TEL LITHIUS

    • Fabricante: Tokyo Electron - TEL
    • Modelo: Lithius

    Tamaño de la oblea: 12" | Proceso: BLOQUE INDIVIDUAL | Envío: EXW

    Corea del Sur
  • 2006 TEL LITHIUS

    2006 TEL LITHIUS

    • Fabricante: Tokyo Electron - TEL
    • Modelo: Lithius

    Tamaño de la oblea: 12 | Envío: EXW

    Corea del Sur
  • 2006 TEL LITHIUS I+

    2006 TEL LITHIUS I+

    • Fabricante: Tokyo Electron - TEL
    • Modelo: Lithius

    Tamaño de la oblea: 12 | Envío: EXW

    Corea del Sur
  • 2006 TEL LITHIUS

    2006 TEL LITHIUS

    • Fabricante: Tokyo Electron - TEL
    • Modelo: Lithius

    Tamaño de la oblea: 12" | Proceso: Desarrollador de revestimientos de alta fiabilidad y productividad | Envío: EXW

    Corea del Sur

Resumen

El fotoresist es un material fotosensible utilizado en procesos como la fotolitografía y el fotograbado para formar un recubrimiento patrón en una superficie. Cuando se expone a una longitud de onda específica de luz, sufre cambios químicos que permiten la eliminación selectiva de las regiones expuestas o no expuestas. Esto es fundamental en la fabricación de semiconductores y microelectrónica, así como en la creación de placas de circuitos impresos.

FAQ (PREGUNTAS MÁS FRECUENTES)

¿Qué factores debo considerar al comprar fotoresist?

Considera el tipo de fotoresist (positivo o negativo), la sensibilidad a la luz, la resolución y la compatibilidad con tu sustrato y revelador.

¿Cómo se debe almacenar el fotoresist?

Almacena el fotoresist en un lugar fresco y oscuro con una temperatura constante. Debe mantenerse alejado de la luz y la humedad para mantener su sensibilidad.

¿Qué precauciones de seguridad se deben tomar al manejar fotoresist?

Usa equipo de protección personal adecuado, incluidos guantes y gafas de seguridad. Asegura una buena ventilación y evita el contacto directo con la piel.