Usado Wafer Cleaning

Ontrak DSS200 Series 2

• Fabricante: OnTrak

Limpieza posterior a la limpieza de cmp: óxido, policristalino, nitruro, tungsteno, aluminio y cobre | Limpieza de uso general: Óxidos previos y posteriores a la CVD, postmetallización, topografía de la superfici...

ONTRAK DSS200 Series 1

• Fabricante: OnTrak

Limpieza posterior a la limpieza de cmp: óxido, policristalino, nitruro, tungsteno, aluminio y cobre | Limpieza de uso general: óxidos post-CVD, post-metallización, limpieza de la topografía de la superficie, lim...

Aquarius™ A200-sa

• Fabricante: AXUS TECHNOLOGY

Dimensiones: 70″W x 56″D x 98″H

DS SEMICON, DS-141, LIMPIADOR DE OBLEAS

• Fabricante: DS SEMICON

Número de serie: N/A | Cantidad: 1 | Detalle del equipo: LIMPIADOR DE ESPONJAS | Equipo: LIMPIADOR DE ESPONJAS | Descripción: N/A

2007 Peter Wolters, AC-1500P, Pulidora de doble cara

• Fabricante: Peter Wolters

Número de serie: N/A | Cantidad: 7 | Detalle del equipo: Pulidora de doble cara | Equipo: Pulidora de doble cara | Descripción: Oblea de 300 mm

1994 TEL EXCALIBUR

• Fabricante: Tokyo Electron - TEL

Tamaño de la oblea: 8" | Proceso: MOJADO | Envío: EXW

Disco DCS141 8 inches wafer cleanning 8 inches wafer cleaner

• Fabricante: Disco

Megasonic Wafer Cleaning

Número de producto: Frecuencia de trabajo; Potencia; Control de potencia; Voltaje de trabajo; Tamaño del generador | Mes-1900a-1040: 1M±8%; ≤40W; 10~40W; AC110V/220V; 180×248×100mm | Modelo de boquilla: Tráfico d...

Megasonic Cleaning Equipment

Número de producto: Frecuencia de trabajo; Potencia máxima; Control de potencia | Mep-1900a-p600: 1M±8%; ≤600W; 20%~100% | Mep-1900a-p1200: 1M±8%; ≤1200W; 20%~100% | Mep-1900a-p1200s: 1M±8%; ≤1200W; 20%~100% | Me...

High Purity Flow Path PFA Inline Chemical Heater For Photovoltaic Wafer Cleaning

Material en agua: PVDF/PFA; PVDF/PFA | Material de la carcasa: Tubería; Tubería | Temperatura máxima: 95°C; 95°C | Presión: 60 psi a 95°C; 60 psi a 95°C | Potencia: 1-6 kW; 1-6 kW | Precisión: ± 0.1°C; ± 0.1°C | ...