MCXJ-MLS8 Maskless lithography System Equipment specifications en Cantón, Guangdong, China
Nuevo
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Especificaciones
- Condición
- nuevo
- Nota
- Debido a la diferencia en el principio de exposición y longitud de onda, los parámetros de proceso de MCXJ-MLS8 pueden ser diferentes de los de las máquinas de exposición tradicionales. La resolución de la resina fotosensible utilizada en la prueba analítica debe ser mejor que 0,6 µm a una longitud de onda de 375 nm.
- Categoría
- Mask Aligners en China
- ID de Anuncio
- 91750807
Descripción
MCXJ-MLS8 Sistema de litografía sin máscara
Muestra:
Diagrama de estructura del equipo
Diagrama de estructura del host de exposición
Especificaciones del equipo