Reactive ion etching system en Cantón, Guangdong, China
Nuevo
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Especificaciones
- Condición
- nuevo
- Subcategoría
- Pvd cvd ald rie icp ebeam
- Subcategoría 2
- Pvd cvd ald rie icp ebeam
- ID de Anuncio
- 79211653
Descripción
Sistema de grabado iónico reactivo
Proyecto
configuración y diagrama de la estructura de la máquina
Resultado del proceso
A base de silicio
grabado de materiales
Materiales basados en silicio,
patrones de nanoimpresión, matriz
patrones y patrón de lente
grabado
InP
grabado a temperatura ambiente
Patrón de grabado de InP basado
en dispositivos utilizados en comunicaciones ópticas, incluida la estructura de guías de onda, estructura de cavidad resonante, cresta, etc.
SiC
grabado de material
Adecuado para dispositivos de microondas, dispositivos de potencia, etc.
Deposición física, grabado de materiales orgánicos tting
Material de película de cermet (cermet)
(Au/Ni/Cr/Al2O3)