Usado mainframes en China

MDXN-31D2 Mask aligner

5.exposure type: capacidad del tanque de gas LP | 6.exposure area: φ100mm; | 7.uneven exposure: ≤±3%; | 8.exposure intensity: ≥5mw/cm2; | 9.exposure resolution: 2μm; | 10.exposure mode: Exposición simultánea en d...