Usado Equipos De Deposición (Cvd, Pvd)

AMAT SUPER-e

• Fabricante: Amat
• Modelo: Centura

Tamaño de la oblea: 8" | Proceso: OXIDO | Cámara: 3C/H

AMAT CENTURA 5200

• Fabricante: Amat
• Modelo: Centura

Tamaño de la oblea: 6" | Proceso: WxP METAL | Envío: EXW

1995 AMAT P5000

• Fabricante: Amat
• Modelo: P5000

Tamaño de la oblea: 8" | Cámara: 2+1C/H (2CVD + 1ETCH)

2005 TEL ALPHA 303I

• Fabricante: Tokyo Electron - TEL
• Modelo: Alpha-303i

Tamaño de la oblea: 12" | Proceso: ETCH | Envío: EXW

AMAT CENTURA DPS G5 MESA

• Fabricante: Amat
• Modelo: Centura

Tamaño de la oblea: 12" | Envío: EXW

2007 AMAT CENTURA ENABLER_E2

• Fabricante: Amat
• Modelo: Centura

Tamaño de la oblea: 12" | Proceso: Grabador de óxido /servidor OS PC | Envío: EXW

TEL FORMULA

• Fabricante: Tokyo Electron - TEL
• Modelo: Formula

Tamaño de la oblea: 12" | Envío: EXW

AMAT CENTURA DPS G5 MESA

• Fabricante: Amat
• Modelo: Centura

Tamaño de la oblea: 12" | Envío: EXW

2010 AMAT CENTURA ENABLER E5

• Fabricante: Amat
• Modelo: Centura

Tamaño de la oblea: 12" | Proceso: ETCHER | Envío: EXW

MD TOTCO 122010 CVD REGISTRO DE DESVÍOS INSTRUMENTO

AEROPUERTO

Equipo CVD para materiales de grafeno y nanotubos de carbono

PVD Physical vapor deposition

There are three types of equipment: 500, 700 and 900.The system is mainly composed of evaporation chamber, rotating substrate frame, light heating system, electron gun and electron gun power supply, quartz crysta...

Equipo de deposición química en fase vapor asistida por plasma PECVD

◆ cantidad de carga: 384 piezas/barco (125 × 125); 336 piezas/barco (156 × 156) | ◆ limpieza de la mesa de purificación: Grado 100 (planta de Grado 10000) | ◆ grado de automatización: control automático de temper...

Proceso PECVD de chip infrarrojo en frío